放射源轉(zhuǎn)移箱為了增加屏蔽效果，可以采用雙層屏蔽的方案。但是，修正因子C是負(fù)值，這主要是反映了電磁波在兩層屏蔽體之間的空間內(nèi)多次反射后有相當(dāng)一部分穿透二層屏蔽體進(jìn)入了內(nèi)部空間，導(dǎo)致屏蔽效能的降低。另外，兩層屏蔽體之間的空間還可能造成諧振，對雙層屏蔽造成負(fù)面影響。

 

　　放射源轉(zhuǎn)移箱的內(nèi)部吸收干擾，外部屏蔽電磁信號。借助電路理論中的電磁感應(yīng)原理交變電磁場通過金屬材料表面時(shí)，金屬材料會(huì)由于感應(yīng)電動(dòng)勢而形成渦流。這個(gè)渦流所產(chǎn)生的磁場，正好與原來的磁場方向相反，從而抵消了部分原來的磁場，起到屏蔽作用。另外，由于金屬材料具有一定的電阻，渦流在金屬材料內(nèi)部產(chǎn)生熱消耗了部分入射電磁波的能力，同樣也起到了屏蔽的作用。

 

　　根據(jù)電磁場理論電磁波在不同傳播媒質(zhì)的界面，由于波阻抗的突變，電磁波會(huì)發(fā)生反射。另外，在傳輸媒質(zhì)中，例如金屬材料內(nèi)部，電磁波會(huì)發(fā)生衰減。這種反射和衰減作用正好就說明金屬材料的屏蔽機(jī)理。

 

　　根據(jù)傳輸線理論電磁波在有損耗的非均勻傳輸線中，由于傳輸線的阻抗與電磁波的阻抗不匹配，電磁波會(huì)發(fā)生反射現(xiàn)象，加上傳輸線是有損耗的，電磁波在傳輸過程中會(huì)發(fā)生衰減。

 

　　這與電磁波理論分析中的反射和衰減十分類似，但是這種方法會(huì)比電磁波的分析方法更加簡便得多，也是目前電磁屏蔽分析中應(yīng)用Z多的方法。電磁波入射到金屬板上時(shí)發(fā)生反射，從屏蔽的角度看稱之為反射損耗。

 

　　透射波在金屬板內(nèi)部傳輸時(shí)衰減的被損耗的那部分稱之為吸收損耗。界面上面被反射的電磁波在一界面又發(fā)生反射和透射，反復(fù)下去直到全部消耗完。這種多次反射現(xiàn)象稱之為多次反射修正因子。